SiC-coatingsmachine Precise adhesive deposition voor wafers en grafietmaterialen

SiC Coating Machine – Nauwkeurige Lijmafzetting voor Wafers & Grafietmaterialen

Productoverzicht

De SiC Coating Machine is een volledig geautomatiseerd, programmeerbaar standalone systeem ontworpen voor nauwkeurige lijmafzetting tussen wafers, SiC-zaden, grafietpapier en grafietplaten.

Het zorgt voor een gecontroleerde en uniforme coatingdikte, waardoor lokale ophoping of dunne plekken worden voorkomen, en biedt een stabiele basis voor daaropvolgende vacuümontgassing en sinteren bij hoge temperaturen.

Ideaal voor pilot-schaal of middelgrote tot grote batchproductie, het systeem ondersteunt een hoge herhaalbaarheid en consistente coatingkwaliteit.

Belangrijkste Kenmerken

• Nauwkeurige Coating: Gecontroleerde lijmdikte zorgt voor uniforme afzetting tussen wafers, grafietpapier en grafietplaten.

• Brede Compatibiliteit: Werkt met lijmen die vaste deeltjes bevatten, ter ondersteuning van een breed scala aan formuleringen.

• Geautomatiseerde Bediening: Programmeerbare standalone besturing met gecoördineerde XYZ-beweging; geschikt voor batch- of pilot-schaal productie.

• Stabiele Voorbehandeling: Biedt een betrouwbare basis voor daaropvolgende vacuümontgassing en sinteren bij hoge temperaturen.

• Hoge Herhaalbaarheid: Zorgt voor consistente coating over alle batches, waardoor de opbrengst en processtabiliteit worden verbeterd.

Specificaties

Typische Toepassingen

• Halfgeleiders & SiC Kristalgroei: Zaaibinding, wafer voorbereiding

• Geleidende & Functionele Coatings: SiC, flux, fotoresist coatings

• Flexibele Substraten & Batterijscheiders: Verwerkt lijmoplossingen die vaste stoffen bevatten

• Glas & Fotovoltaïsche Materialen: Uniforme coating tussen grafietplaten en papier

FAQ – Veelgestelde Vragen

V1: Kan de machine lijmen verwerken die vaste stoffen bevatten?
A1: Ja. De machine gebruikt een zeer nauwkeurige constante stroomtoevoer met online dispersie, waardoor uniform spuiten van lijmen die vaste stoffen bevatten, zonder verstopping van de spuitmond, wordt gewaarborgd.

V2: Hoe nauwkeurig is de controle van de coatingdikte?
A2: De coatingdikte varieert van 20 nm tot tientallen microns, met precieze controle voor uniformiteit en herhaalbaarheid.

V3: Welke soorten substraten worden ondersteund?
A3: Wafers, SiC-zaden, grafietpapier en grafietplaten, inclusief flexibele substraten met vacuüm-ondersteunde verwarming.

V4: Kan de machine worden gebruikt voor batchproductie?
A4: Ja. De programmeerbare XYZ-asbesturing ondersteunt pilot-schaal tot middelgrote batchproductie, met parallelle werking van meerdere spuitmonden.

V5: Hoe wordt de uniformiteit van de coating gewaarborgd?
A5: Laseruitlijning, constante stroomtoevoer, synchronisatie van meerdere spuitmonden en ultrasone spuitmondtechnologie zorgen voor >95% uniformiteit.

V6: Is machineonderhoud ingewikkeld?
A6: Nee. De machine is uitgerust met automatisch reinigende spuitmonden, recycling van afvalvloeistof en afzuigsystemen, waardoor de onderhoudsvereisten tot een minimum worden beperkt.