Merknaam: | ZMSH |
Modelnummer: | SiC-substraat |
Leveringstermijn: | 2-4 weken |
Betalingsvoorwaarden: | T/T |
SiC wafer, Siliciumcarbide Wafer, SiC Substraat, Siliciumcarbide Substraat, P Grade, D Grade, 2inch SiC, 4inch SiC, 6inch SiC, 8inch SiC, 12inch SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, HPSI type, AR Glazen, Optische Grade
Over 4H-SEMI SiC
Beschrijving van 4H-SEMI SiC
Siliciumcarbide (SiC) is een veelzijdige halfgeleider die bekend staat om zijn prestaties in high-power en high-frequency toepassingen.
De brede bandgap maakt efficiënte werking bij hoge spanningen en temperaturen mogelijk, waardoor het geschikt is voor vermogenselektronica, RF-apparaten en zware omgevingen.
SiC is essentieel voor industrieën zoals de auto-industrie en energie vanwege zijn betrouwbaarheid en efficiëntie.
Geavanceerde productiemethoden, zoals Chemical Vapor Deposition (CVD) en Physical Vapor Transport (PVT), zorgen voor hoogwaardige, duurzame componenten.
De unieke eigenschappen van SiC maken het ook ideaal voor opto-elektronica met korte golflengte, omgevingen met hoge temperaturen, stralingsbestendigheid en veeleisende elektronische systemen.
ZMSH biedt een reeks SiC-wafers, waaronder 6H- en 4H-typen, ongeacht N-type, SEMI-type of HPSI-type, waardoor hoge kwaliteit, stabiele levering en kosteneffectiviteit worden gewaarborgd door grootschalige productieprocessen.
Kenmerken van 4H-SEMI SiC
4-inch Diameter 4H Semi-isolerende Siliciumcarbide Substraat Specificatie | ||
SUBSTRAAT EIGENSCHAP | Productie Grade | Dummy Grade |
Diameter | 50.8.0 mm +0.0/-0.38 mm | |
Oppervlakteoriëntatie | on-axis: {0001} ± 0.2° | |
Primaire Vlakoriëntatie | <11-20> ± 5.0˚ | |
Secundaire Vlakoriëntatie | 90.0˚ CW vanaf Primaire ± 5.0˚, siliciumzijde omhoog | |
Primaire Vlaklengte | 32.5 mm ± 2.0 mm | |
Secundaire Vlaklengte | 18.0 mm ± 2.0 mm | |
Waferrand | Afschuining | |
Micropipe Dichtheid | ≤5 micropipes/cm2 | ≤50 micropipes/cm2 |
Polytype Gebieden door Licht met Hoge Intensiteit | Niet toegestaan | ≤10% oppervlakte |
Weerstand | 0.015~0.028Ω·cm | (oppervlakte 75%) |
0.015~0.028Ω·cm | ||
Dikte | 350.0 μm ± 25.0 μm of 500.0 μm ± 25.0 μm | |
TTV | ≤10 μm | ≤15 μm |
BOW (absolute waarde) | ≤25 μm | ≤30 μm |
Warp | ≤45 μm | |
Oppervlakteafwerking | Dubbelzijdige Polijsting, Si Face CMP (chemisch polijsten) | |
Oppervlakteruwheid | CMP Si Face Ra≤0.5 nm | N/A |
Scheuren door licht met hoge intensiteit | Niet toegestaan | |
Randchips/Inkepingen door Diffuus Licht | Niet toegestaan | Aantal 2<1.0 mm breedte en diepte |
Totaal Bruikbaar Oppervlak | ≥90% | N/A |
Opmerking: Aangepaste specificaties anders dan de bovenstaande parameters zijn acceptabel. |
Meer voorbeelden van 4H-SEMI SiC
*Neem gerust contact met ons op als u aangepaste wensen heeft.
Vergelijkbare productaanbevelingen
1.4Inch 4H-N Siliciumcarbide SiC Substraat Dia 100mm N type P grade D grade Dikte 350um Aangepast
2.4H-N Siliciumcarbide SiC Substraat 8 inch Dikte 350um 500um P grade D grade SiC wafer
FAQ
1. V: Hoe zorgt 4H-SiC Semi voor de kwaliteit van zijn wafers?
A: 4H-SiC Semi maakt gebruik van geavanceerde productietechnieken, waaronder Chemical Vapor Deposition (CVD) en Physical Vapor Transport (PVT), en volgt strenge kwaliteitscontroleprocessen om hoogwaardige wafers te garanderen.
2. V: Wat is het belangrijkste verschil tussen 4H-N SiC en 4H-SEMI SiC
A: Het belangrijkste verschil tussen 4H-N SiC en 4H-SEMI SiC is dat 4H-N SiC (Stikstofgedoteerd) een n-type halfgeleider siliciumcarbide is, terwijl 4H-Semi SiC semi-isolerend siliciumcarbide is, dat is verwerkt om een zeer hoge weerstand te hebben.
Tags: #4H-SEMI, #SiC Substraat, #2 Inch, #Dikte 350um 500um, #Prime/Dummy Grade, #AR Glazen, #Optische Grade