| Merknaam: | ZMSH |
| Modelnummer: | SiC-substraat |
| Leveringstermijn: | 2-4 weken |
| Betalingsvoorwaarden: | T/T |
SiC wafer, Siliciumcarbide Wafer, SiC Substraat, Siliciumcarbide Substraat, P Grade, D Grade, 2inch SiC, 4inch SiC, 6inch SiC, 8inch SiC, 12inch SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, HPSI type, AR Glazen, Optische Grade
Over 4H-SEMI SiC![]()
Beschrijving van 4H-SEMI SiC
Siliciumcarbide (SiC) is een veelzijdige halfgeleider die bekend staat om zijn prestaties in high-power en high-frequency toepassingen.
De brede bandgap maakt efficiënte werking bij hoge spanningen en temperaturen mogelijk, waardoor het geschikt is voor vermogenselektronica, RF-apparaten en zware omgevingen.
SiC is essentieel voor industrieën zoals de auto-industrie en energie vanwege zijn betrouwbaarheid en efficiëntie.
Geavanceerde productiemethoden, zoals Chemical Vapor Deposition (CVD) en Physical Vapor Transport (PVT), zorgen voor hoogwaardige, duurzame componenten.
![]()
De unieke eigenschappen van SiC maken het ook ideaal voor opto-elektronica met korte golflengte, omgevingen met hoge temperaturen, stralingsbestendigheid en veeleisende elektronische systemen.
ZMSH biedt een reeks SiC-wafers, waaronder 6H- en 4H-typen, ongeacht N-type, SEMI-type of HPSI-type, waardoor hoge kwaliteit, stabiele levering en kosteneffectiviteit worden gewaarborgd door grootschalige productieprocessen.
Kenmerken van 4H-SEMI SiC
| 4-inch Diameter 4H Semi-isolerende Siliciumcarbide Substraat Specificatie | ||
| SUBSTRAAT EIGENSCHAP | Productie Grade | Dummy Grade |
| Diameter | 50.8.0 mm +0.0/-0.38 mm | |
| Oppervlakteoriëntatie | on-axis: {0001} ± 0.2° | |
| Primaire Vlakoriëntatie | <11-20> ± 5.0˚ | |
| Secundaire Vlakoriëntatie | 90.0˚ CW vanaf Primaire ± 5.0˚, siliciumzijde omhoog | |
| Primaire Vlaklengte | 32.5 mm ± 2.0 mm | |
| Secundaire Vlaklengte | 18.0 mm ± 2.0 mm | |
| Waferrand | Afschuining | |
| Micropipe Dichtheid | ≤5 micropipes/cm2 | ≤50 micropipes/cm2 |
| Polytype Gebieden door Licht met Hoge Intensiteit | Niet toegestaan | ≤10% oppervlakte |
| Weerstand | 0.015~0.028Ω·cm | (oppervlakte 75%) |
| 0.015~0.028Ω·cm | ||
| Dikte | 350.0 μm ± 25.0 μm of 500.0 μm ± 25.0 μm | |
| TTV | ≤10 μm | ≤15 μm |
| BOW (absolute waarde) | ≤25 μm | ≤30 μm |
| Warp | ≤45 μm | |
| Oppervlakteafwerking | Dubbelzijdige Polijsting, Si Face CMP (chemisch polijsten) | |
| Oppervlakteruwheid | CMP Si Face Ra≤0.5 nm | N/A |
| Scheuren door licht met hoge intensiteit | Niet toegestaan | |
| Randchips/Inkepingen door Diffuus Licht | Niet toegestaan | Aantal 2<1.0 mm breedte en diepte |
| Totaal Bruikbaar Oppervlak | ≥90% | N/A |
| Opmerking: Aangepaste specificaties anders dan de bovenstaande parameters zijn acceptabel. | ||
Meer voorbeelden van 4H-SEMI SiC
![]()
*Neem gerust contact met ons op als u aangepaste wensen heeft.
Vergelijkbare productaanbevelingen
1.4Inch 4H-N Siliciumcarbide SiC Substraat Dia 100mm N type P grade D grade Dikte 350um Aangepast
2.4H-N Siliciumcarbide SiC Substraat 8 inch Dikte 350um 500um P grade D grade SiC wafer
FAQ
1. V: Hoe zorgt 4H-SiC Semi voor de kwaliteit van zijn wafers?
A: 4H-SiC Semi maakt gebruik van geavanceerde productietechnieken, waaronder Chemical Vapor Deposition (CVD) en Physical Vapor Transport (PVT), en volgt strenge kwaliteitscontroleprocessen om hoogwaardige wafers te garanderen.
2. V: Wat is het belangrijkste verschil tussen 4H-N SiC en 4H-SEMI SiC
A: Het belangrijkste verschil tussen 4H-N SiC en 4H-SEMI SiC is dat 4H-N SiC (Stikstofgedoteerd) een n-type halfgeleider siliciumcarbide is, terwijl 4H-Semi SiC semi-isolerend siliciumcarbide is, dat is verwerkt om een zeer hoge weerstand te hebben.
Tags: #4H-SEMI, #SiC Substraat, #2 Inch, #Dikte 350um 500um, #Prime/Dummy Grade, #AR Glazen, #Optische Grade