logo
Goede prijs  online

details van de producten

Created with Pixso. Huis Created with Pixso. PRODUCTEN Created with Pixso.
Gesmolten Kwartsplaat
Created with Pixso. BOROFLOAT 33 BF33 Borosilicaatglaswafer voor halfgeleider-MEMS en optische toepassingen

BOROFLOAT 33 BF33 Borosilicaatglaswafer voor halfgeleider-MEMS en optische toepassingen

Merknaam: ZMSH
MOQ: 10
Leveringstermijn: 2-4 weken
Betalingsvoorwaarden: T/T
Gedetailleerde informatie
Plaats van herkomst:
Sjanghai, China
SiO2-gehalte:
> 80%
Thermische expansiecoëfficiënt:
3,3 × 10⁻⁶ / K
Brekingsindex:
1.47
Dikte:
2,23 g/cm³
Verzachtingspunt:
820 ° C
Gloeipunt:
560 ° C
Spanningspunt:
520 ° C
Lichttransmissie:
>90% (zichtbaar bereik)
Oppervlakteruwheid:
<1 nm (DSP-kwaliteit)
Markeren:

BOROFLOAT 33 borosilicaat glaswafer

,

glaswafers BF33 voor halfgeleiders

,

Borosilicaatglaswafer voor MEMS

Productomschrijving

BOROFLOAT 33 BF33 Borosilicaatglaswafer voor halfgeleider-MEMS en optische toepassingen 0BOROFLOAT 33 BF33 Borosilicaatglaswafer voor halfgeleider-MEMS en optische toepassingen

BF33 (BOROFLOAT 33) is een hoogwaardige borosilicaatglaswafer vervaardigd met behulp van geavanceerde microfloat-technologie.en microfluidische toepassingen vanwege de uitstekende thermische stabiliteit, hoge optische transmissie en sterke chemische weerstand.

Met een thermische uitbreidingscoëfficiënt van ongeveer 3,3 × 10−6 /K, past BF33 nauw bij silicium, waardoor het een ideaal substraat is voor waferbinding, microfabricatie en precisie-optische systemen.

Het biedt een uitstekende vlakheid, een zeer lage oppervlaktruisheid en een hoge mechanische sterkte, waardoor het geschikt is voor veeleisende cleanroom- en precisie-engineeringomgevingen.

Materiële eigenschappen

Vastgoed Waarde
SiO2-gehalte > 80%
Coëfficiënt van thermische uitbreiding 3.3 × 10−6 /K
Brekingsindex 1.47
Dichtheid 2.23 g/cm3
Verzachtingspunt 820°C
Verzilveringspunt 560°C
Spanningspunt 520°C
Lichttransmissie > 90% (zichtbaar bereik)
Ruwheid van het oppervlak < 1 nm (DSP-klasse)
Chemische weerstand ISO-klasse 1 (water en zuren)
Alkaliweerstand ISO-klasse 2

BOROFLOAT 33 BF33 Borosilicaatglaswafer voor halfgeleider-MEMS en optische toepassingen 1Belangrijkste kenmerken

  • Een lage thermische uitbreidingscoëfficiënt bij siliciumsubstraten
  • Hoge optische transmissie van UV naar nabij-infrarood
  • Uitstekende chemische weerstand tegen zuren, alkalis en oplosmiddelen
  • Hoge thermische stabiliteit tot 450°C (langdurig gebruik)
  • Kortdurende weerstand tot 500°C
  • Ultra-gletste oppervlakkegehalte (Ra < 1 nm, beschikbaar DSP)
  • Hoge mechanische sterkte en uitstekende krasbestendigheid
  • Lage autofluorescentie voor biomedische toepassingen
  • Uitstekende vlakheid en lage TTV voor precisieprocessen

Toepassingen

Applicaties voor halfgeleiders en MEMS

  • MEMS-sensoren en micro-apparaten
  • verpakkingssubstraten op waferniveau
  • Siliciumanodische bindingsprocessen
  • Microfluïdische chips en lab-on-chip systemen
  • Waferdrager- en verdunningsprocessen

Optische en fotonische systemen

  • Laservensters en optische componenten
  • Mikroscopen en beeldvormende systemen
  • optische filters en precisiesubstraten
  • optische assemblages met een hoge stabiliteit

Biomedische en analytische hulpmiddelen

  • Biochips en diagnostische platforms
  • PCR- en lab-on-chip-systemen
  • detectiesystemen met een lage autofluorescentie
  • met een vermogen van niet meer dan 50 W

Industriële en hoge temperatuur toepassingen

  • Ovenbewakingsvensters
  • voor chemische reactoren
  • Sensorbeschermingsramen
  • Milieubewakingssystemen

Beschikbare specificaties

Artikel 1 Opties
Diameter 2 inch / 4 inch / 6 inch / 8 inch / Custom
Dikte 0.1 mm 10 mm
Tipe oppervlak Eenzijdig gepolijst (SSP) / dubbelzijdig gepolijst (DSP)
Ruwheid van het oppervlak < 1 nm (DSP beschikbaar)
Vlakheid Laag TTV beschikbaar op verzoek
Rande afwerking Afgerond / gecamferd / op maat
Verpakking Vacuümverpakkingen met schoonruimte

Voordelen

BF33 borosilicaat glas wafer combineert silicium-matched thermische uitbreiding, uitstekende optische prestaties, hoge chemische duurzaamheid, en MEMS-compatibele oppervlakkegehalte.

Het wordt veel gebruikt als brugmateriaal tussen de verwerking van halfgeleiders, optische techniek en de fabricage van micro-apparaten.

BOROFLOAT 33 BF33 Borosilicaatglaswafer voor halfgeleider-MEMS en optische toepassingen 2Veelgestelde vragen

Wat is een BF33 borosilicaat glas wafer?

BF33 is een hoogzuivere borosilicaatglaswafer die wordt geproduceerd door microfloat-technologie, met lage thermische expansie, hoge optische helderheid en sterke chemische weerstand.

Waarom wordt BF33 gebruikt in MEMS-toepassingen?

De thermische uitbreiding is vergelijkbaar met die van silicium, waardoor de spanning tijdens de binding wordt verminderd en de stabiliteit in MEMS- en waferprocessen wordt verbeterd.

Kunnen BF33 wafers gepolijst worden?

Ja, BF33-wafers zijn verkrijgbaar in SSP- en DSP-vorm.

Is BF33 geschikt voor optische toepassingen?

Ja, het zorgt voor een hoge transmissie van UV naar bijna-infrarood golflengten, waardoor het ideaal is voor optische en fotonische systemen.


Gerelateerde producten


BOROFLOAT 33 BF33 Borosilicaatglaswafer voor halfgeleider-MEMS en optische toepassingen 3


JGS1 JGS2 Wafers Optische kwaliteit gesmolten kwartswafers 2-12 inch