| Merknaam: | ZMSH |
| MOQ: | 10 |
| Leveringstermijn: | 2-4 weken |
| Betalingsvoorwaarden: | T/T |
HBN-singlekristal van apparaatkwaliteit voor 2D-materialen, grafeenelektronica en diep-UV-toepassingen
Device-Grade Hexagonal Boron Nitride (hBN) Single Crystal is een hoogzuiver bulkkristalmateriaal dat is gegroeid met behulp van een gepatenteerd groeiproces onder atmosferische druk. Deze kristallen zijn speciaal ontworpen voor geavanceerd onderzoek en elektronische en fotonische apparaten van de volgende generatie en bieden een ultraschoon, atomair vlak platform voor grafeen-heterostructuren, van der Waals-apparaten, nanofotonica en diep-ultraviolette opto-elektronica.
Het materiaal vertoont een uitzonderlijke kristalkwaliteit, lage defectdichtheid, uitstekende diëlektrische sterkte en uitstekende optische eigenschappen. Onafhankelijke validatie door derden heeft aangetoond dat de prestaties van elektronische apparaten vergelijkbaar zijn met of beter zijn dan de huidige academische benchmark van toonaangevende hBN-kristalproducenten.
Device-Grade hBN Single Crystal is verkrijgbaar als bulkkristallen op millimeterschaal met natuurlijke groeifacetten en is een ideaal substraat en inkapselingsmateriaal voor grafeenapparaten met hoge mobiliteit en opkomende tweedimensionale materiaalsystemen.
![]()
![]()
![]()
![]()
| Parameter | Specificatie |
|---|---|
| Materiaal | Zeshoekig boornitride (hBN) enkel kristal |
| Kristalkwaliteit | Apparaatkwaliteit |
| Kristalvorm | Bulk enkel kristal |
| Groeimethode | Eigen atmosferische drukgroei |
| Typische laterale grootte | ≥ 1 mm |
| Kristallen oppervlak | Natuurlijke groeifacetten |
| Verpakking | Chipdrager |
| Aantal per verpakking | 5–10 Kristallen |
| Parameter | Typische waarde |
| Diëlektrisch doorslagveld | 1,64 ± 0,06 V/nm |
| Parameter | Typische waarde |
| UV-bandrandemissie | ~215 nm |
| Raman E₂g FWHM | 7,88 cm⁻¹ |
| Kristalluminescentiekwaliteit | State-of-the-art niveau |
| Parameter | Typische waarde |
| Grafeen Mobiliteit bij kamertemperatuur | ~80.000 cm²/V·s |
| Dragerdichtheid | 1 × 10¹²cm⁻² |
| Meettemperatuur | 300 K |
![]()
HBN van apparaatkwaliteit wordt veel gebruikt als inkapselingslaag en substraatmateriaal voor grafeentransistors, Hall-apparaten en hoogfrequente elektronische componenten. Het atomair gladde oppervlak minimaliseert ladingsverstrooiing en maakt ultrahoge dragermobiliteit mogelijk.
Het materiaal dient als een kritische bouwsteen in Van der Waals-heterostructuren waarbij grafeen, overgangsmetaaldichalcogeniden (TMD's) en andere opkomende tweedimensionale materialen betrokken zijn.
Hoogwaardig hBN ondersteunt de voortplanting van fonon-polariton en wordt steeds vaker gebruikt in nanofotonische apparaten, optische metasurfaces en onderzoek naar kwantumfotonica.
Met karakteristieke bandrandemissie nabij 215 nm zijn hBN-eenkristallen veelbelovende materialen voor diep-UV-stralers, detectoren en fotonische systemen van de volgende generatie.
Onderzoekers gebruiken hBN als een ultraschoon diëlektrisch platform voor het onderzoeken van nieuwe kwantumfenomenen, waaronder moiré-superroosters, gecorreleerde elektronensystemen en kwantumtransport.
Vergeleken met conventionele polykristallijne boornitridematerialen bieden hBN-eenkristallen van apparaatkwaliteit:
Deze eigenschappen maken hBN tot een van de belangrijkste materialen voor moderne tweedimensionale elektronica en fotonische technologieën.
HBN-singlekristallen van apparaatkwaliteit worden geleverd in beschermende chipdragers om veilig transport en gemakkelijke laboratoriumhantering te garanderen. Elke verpakking bevat doorgaans 5 à 10 kristallen met representatieve laterale afmetingen van meer dan 1 mm.
Aangepaste kristalselectie en materiaalinkoop van onderzoekskwaliteit zijn op aanvraag beschikbaar.
HBN van apparaatkwaliteit is een hoogzuiver monokristal met weinig defecten van hexagonaal boornitride, specifiek geoptimaliseerd voor de fabricage van elektronische, fotonische en kwantumapparaten.
hBN biedt een atomair glad en elektrisch isolerend oppervlak dat de mobiliteit van grafeendragers en de prestaties van het apparaat aanzienlijk verbetert in vergelijking met conventionele substraten.
Ja. Hoogwaardige hBN vertoont bandrandemissie nabij 215 nm, waardoor het aantrekkelijk is voor diep-UV-fotonica, detectoren en opto-elektronische apparaten.
Standaardkristallen van apparaatkwaliteit bieden doorgaans laterale afmetingen van meer dan 1 mm. Grotere kristallen en aangepaste selecties zijn mogelijk beschikbaar, afhankelijk van de productiebatches.
Ja. HBN-eenkristallen van apparaatkwaliteit worden veel gebruikt in academisch onderzoek, geavanceerde materiaalstudies, grafeenelektronica, nanofotonica en de fabricage van prototypen van apparaten.