Kwarts Optisch Gesmolten Silica Glazen JGS1, JGS2, JGS3​​

Quartz Optisch Gesmolten Silica Glazen JGS1, JGS2, JGS3​​

De JGS-serie (JGS1, JGS2, JGS3) vertegenwoordigt China's belangrijkste geïntegreerde productie en handel van optische gesmolten silica materialen, die ultraviolet tot infrarood spectrale toepassingen bestrijken. Deze materialen bereiken een volledig spectrumdekking door geoptimaliseerde spectrale kenmerken en thermisch-mechanische balans. Selectie vereist een uitgebreide afweging van transmissievenster, thermische stabiliteit en mechanische sterkte, met kostenbeperkingen als een cruciale factor. Diepe ultraviolette lithografie geeft bijvoorbeeld prioriteit aan JGS1 met anti-reflectiecoatings, terwijl kwantumcommunicatiesystemen de infraroodtransmissie en laserbeschadigingsbestendigheid van JGS3 moeten balanceren. Naarmate de halfgeleiderprocessen vorderen naar 3 nm en lager, zullen JGS-materialen hun kernpositie in ultraprecisie optische systemen verder verstevigen.

Quartz Optisch Glas JGS1, JGS2, JGS3Vergelijkende Analysetabel​​

Quartz Optisch Glas JGS1, JGS2, JGS3Specificatieparameter

Quartz Optisch Glas JGS1, JGS2, JGS3 ​​Toepassingsspecifiek

1. JGS1: Deep-Ultraviolette Systemen mogelijk maken​​

• ​​Halfgeleiderlithografie​​: Dient als optiek voor 193 nm ArF excimeerlasers, met een resolutie van <10 nm voor 7nm node chips.
• ​​UV-lasermachining​​: Lage dubbele breking (λ/10) minimaliseert bundelvervorming in UV-snijkoppen voor precisie PCB-boren.
• ​​Lucht- en Ruimtevaart Sensing​​: Legt UV-signalen (185 nm) vast voor analyse van de atmosferische ionosfeer in remote sensing.

​​

2. JGS2: Balans tussen UV- en Zichtbare Prestaties​​

• ​​Industriële Lasers​​: Stabiliseert 1064 nm laserstralen in fiberlasers via lage dubbele breking (4-6 nm/cm).
• ​​UV-uitharding​​: Hoge transmissie (90% @220-400 nm) versnelt UV-lijmuitharding in 3D-printen.
• ​​Waferinspectie​​: Zorgt voor λ/20 uniformiteit in zichtbaar licht (400-700 nm) voor defectdetectie.

​​

3. JGS3: Uitbreiding van Infraroodmogelijkheden​​

• ​​Thermische Beeldvorming​​: >85% transmissie in de 3-5 μm band maakt hooggevoelige FLIR-systemen mogelijk.
• ​​Kwantumcommunicatie​​: Elimineert waterabsorptiepieken (OH <5 ppm) voor low-loss 1550 nm optische links.
• ​​Laserfusie​​: Bestand tegen 10 kJ/cm² pulsen in CO₂ laserfusie reactoren.

V1: ​​Wat is het belangrijkste verschil tussen JGS1, JGS2 en JGS3 gesmolten silica?​​

​​A1:​​ JGS1​​: Geoptimaliseerd voor diep UV (185 nm transmissie >90%) en gebruikt in halfgeleiderlithografie.

​​      JGS2​​: Gebalanceerd UV-vis (220-2500 nm) met matig OH-gehalte, ideaal voor lasers en uithardingssystemen.

​​      JGS3​​: Hoge IR-transmissie (>85% @3.5 μm) en ultra-laag OH (5 ppm), cruciaal voor kwantumcommunicatie en thermische beeldvorming.

V2: ​​Welk JGS-materiaal is het beste voor lasertoepassingen?​​

​​A2:​​ JGS2​​ (220-2500 nm, 150 ppm OH) verwerkt 1064 nm lasers met lage dubbele breking.

     ​​ JGS3​​ (260-3500 nm, 5 ppm OH) heeft de voorkeur voor high-power CO₂ lasers (10.6 μm) vanwege minimale fluorescentie.

Tag: #​​Optische Gesmolten Silica Glazen, #Aangepast, #JGS1, JGS2, JGS3​​, #Kwartsglas