Merknaam: | ZMSH |
Modelnummer: | 6 inch 8 inch 4H-SEMI SiC |
MOQ: | 25 stc |
Prijs: | by case |
Leveringstermijn: | in 30 dagen |
Betalingsvoorwaarden: | T/T |
Optische Grade 6 inch 8 inch 4H-SEMI Type SiC Substraat voor AR Brillen
Een revolutionair optisch-grade 4H-SiC substraat dat speciaal is ontworpen voor AR-brillen, gekweekt via Physical Vapor Transport (PVT) en verfijnd door middel van nano-schaal polijsten en low-stress snijden. Dit product bereikt 's werelds eerste single-layer waveguide full-color display oplossing, en pakt kritieke uitdagingen in AR-optiek aan:
Dit substraat herdefinieert lichtgewicht, meeslepende AR-ervaringen en stuurt de volgende generatie consumenten-AR-brillen aan.
1. Hoge Brekingsindex met Lage Dispersie
2. Ultra-Lage Thermische Uitdeiningscoëfficiënt (CTE=3.7×10⁻⁶/K)
3. Nano-Schaal Oppervlaktevlakkigheid (Ra<0.2 nm)
4. Defectdichtheid <0.04/cm² (8-inch)
5. Grootschalige 8-inch Productiemogelijkheid
1. AR Lens Golfgeleiders
2. Micro LED Display Modules
3. AR Optische Stabilisatiesystemen
4. Slimme Brillen Thermisch Beheer
Kristalparameters | |
Type | 4H |
Brekingsindex a | >2.6 @550nm |
Absorptie a | ≤0.5% @450-650nm |
MP transmissie a (zonder anti-reflectie condities) |
≥66.5% |
Waas a | ≤0.3% |
Polymorfisme a | Niet toegestaan |
Microbuisdichtheid | ≤0.5/cm² |
Zeshoekige void dichtheid | Niet toegestaan |
Onzuiverheid Korrel op Zeshoekig a | Niet toegestaan |
MP Insluiting a | Niet toegestaan |
Mechanische parameters | |
Dia(inches) | 6 |
Oppervlakteoriëntatie | (0001)±0.3° |
Notch referentierand | Notch |
Notch oriëntatie | <1-100>±2° |
Notch hoek | 90±5°/1° |
Notch diepte | 1 mm ±0.25 mm (-0 mm) |
Oppervlaktebehandeling | C-Si zijde (CMP) |
Wafer rand | Afschuining |
Oppervlakte ruwheid (AFM) | Ra≤0.2 nm (5×5 µm scan gebied) |
Dikte a (Tropel) | 500.0 µm ±25.0 µm |
LTV (Tropel) | ≤2 µm |
TTV a (Tropel) | ≤3 µm |
Bow a (Tropel) | ≤5 µm |
Warp a (Tropel) | <15 µm |
1. V: Wat zijn de belangrijkste voordelen van SiC substraten voor AR-brillen?
A: Hoge brekingsindex (n=2.619@750nm) maakt ultra-dunne single-layer golfgeleiders mogelijk (80° FOV, waardoor regenboogeffecten en gewichtsproblemen in traditionele glasoplossingen worden geëlimineerd.
2. V: Waarom kiezen voor 4H-SEMI type SiC substraten boven andere polytypen?
A: 4H-SiC biedt superieure thermische stabiliteit (CTE=3.7×10⁻⁶/K) en defectdichtheid <0.04/cm² (8-inch), waardoor betrouwbaarheid in optische systemen met hoog vermogen en massaproductieschaalbaarheid wordt gegarandeerd.
Tag: #Siliciumcarbide substraat, #6inch, #8inch, #Halfgeleidermaterialen, #4H-SEMI SiC, #Product Grade, #5G Communicatie, # AR Brillen, #MOS Grade, #4H-SiC Substraten,#Optische Grade