Productdetails:
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden:
|
Diameter: | 6 inch (150 mm) | Dikte Tolerantie: | ±0,02 mm |
---|---|---|---|
Totaal dikteverschil: | ≤10μm | Ruwheid van het oppervlak: | ≤ 0,5 nm Ra |
Parallelisme: | ≤3μm | Resistiviteit: | > 1016 Ω·cm |
Markeren: | Warmtebestendige transparante kwartskristallen substraat,Monokristallijn kwartskristal substraat |
De 6-inch kwartswafer (150 mm diameter) is vervaardigd van hoogzuiver kwartsglas (zuiverheid ≥ 99,999%) met een dikte van 50-500 μm. De oppervlakte ruwheid wordt gecontroleerd tot Ra ≤ 0,5 nm door middel van CMP (Chemical Mechanical Polishing). Het productieproces omvat: - Ik weet het niet.
· zuivering van grondstoffen:Extractie van silicium van elektronische kwaliteit uit kwartszand door middel van chloor- en reductieprocessen, met een zuiverheid van 99,9999%. - Ik weet het niet.
· Groei in één kristal:Het gebruik van de Czochralski-methode (CZ) voor de teelt van enkelkristallieke siliciumstaven met een defectdichtheid van < 1 defect/cm2. - Ik weet het niet.
· Snijden en verwerken:Het snijden van siliciumstaven in wafers van 150 mm met behulp van meerdraadzaagwerk, gevolgd door dubbelzijdig polijsten en laserafsnijden om een tolerantie van ≤ ± 15 μm te garanderen.
Parometer | Specificatie |
Diameter | 6 inch (150 mm) |
Diktebereik | 0.5 mm~3.0 mm |
Dikte Tolerantie | ±0,02 mm |
Totaal dikteverschil | ≤ 10 μm |
Ruwe oppervlakte (gepolijst) | ≤ 0,5 nm Ra |
Parallelisme | ≤ 3 μm |
CTE (20-300°C) | 0.55×10−6/°C |
Transmissiekracht @ 193 nm | > 92% |
Resistiviteit | > 1016 Ω·cm |
Vacuümcompatibiliteit | 10−10 Torr |
Flexurele sterkte (versterkt) | 500-700 MPa |
De 6-inch kwartswafer is een cirkelvormige dunne film gemaakt van hoogzuiver kwartsmateriaal, die veel wordt gebruikt in de productie van halfgeleiders, opto-elektronica en precisie-optica.
· Hoge zuiverheid en thermische weerstand:Quarzglas zuiverheid ≥ 99,999%, verzachtingspunt ~ 1730°C, kortdurende tolerantie tot 1450°C.
- Ik weet het niet.· Lage thermische expansie:een thermische uitbreidingscoëfficiënt van 0,5 × 10−6/°C (25-300°C), bestand tegen thermische schokken (ΔT ≥ 800°C).
· Chemische stabiliteit:Weerstand tegen corrosie door alle zuren, behalve fluorwaterzuur, met een corrosieweerstand 30x hoger dan keramiek en 150x hoger dan roestvrij staal.
Optische prestaties:Hoge doorlaatbaarheid in het ultraviolet-nabij-infrarood spectrum (zichtbaar licht > 93%, nabij-infrarood > 95%).
- Ik weet het niet.· Mechanische sterkte:Mohs hardheid van 7, compressiestevigheid superieur aan standaard glas.
1. halfgeleiderproductie: wordt gebruikt in dioden, transistors en MOSFET's, ter ondersteuning van automobielelektronica en vermogenshalveledders.
Opto-elektronica: dient als substraat voor optische vezels, laserapparaten en golfleiders in 5G-netwerken en datacenters.
3Precision Optics: wordt toegepast in infrarood beeldsystemen, laseroptica en hoogtransmittance-lenzen.
4. Sensoren en instrumenten: Kerncomponenten in MEMS-sensoren en medische diagnostische apparatuur.
5. Luchtvaart: Hoogtemperatuuroptische ramen en warmtebestendige onderdelen voor ruimteschepen.
Quartzbuizen zijn hoogzuiver kwartsglas vervaardigd in buisvormige structuren, veel gebruikt in halfgeleiderdifusie/oxidatieprocessen en fotovoltaïsche apparatuur.
· Custom Processing: Innerlijke diameters (5-50 mm), lengtes (100-1000 mm) en wanddiktes (0,5-3 mm).
· Technische voordelen: werkt langdurig bij 1100°C, met een laag hydroxylgehalte (< 1 ppm) en een hoge verontreinigingsbestandheid, die voldoet aan de reinigingsvereisten van halfgeleiders.
1. V: Wat zijn de belangrijkste toepassingen van 6-inch kwartswafers? - Ik weet het niet.
A: 6-inch kwartswafers worden veel gebruikt in de vervaardiging van halfgeleiders (bijv. dioden, MOSFET's), opto-elektronica (vezeloptica, lasers),en precisie-sensoren vanwege hun hoge thermische stabiliteit en optische transparantie..
2. V: Welke uitdagingen bestaan er bij de productie van 6 inch kwartswafers? - Ik weet het niet.
A: Belangrijkste uitdagingen zijn onder meer het handhaven van een ultrahoge zuiverheid (> 99,999% SiO2), het minimaliseren van gebreken tijdens de groei van kristallen en het waarborgen van uniformiteit in snij- / polijstprocessen.
Tags: #6 Inch Quartz Substrate, #Customized, #Fused Silica Plates, #SiO2 Crystal, #Quartz wafers, #JGS1/JGS2 Grade, #High-Purity, #Fused Silica Optical Components, #Quartz Glass Plate,#Diameter 150mm , #Quartz Crystal Glass Wafer, #5N Purity SiO2, #Heat-Resistant, #Transparent, #Monocrystalline Quartz Crystal Substrate, #SAW Devices
Contactpersoon: Mr. Wang
Tel.: +8615801942596