3 inch Quartz Substraat Hoog zuiverheids gesmolten Silica Wafer 76,2 mm Diameter JGS1/JGS2

3 inch kwartssubstraat hoogzuiver gesmolten silica wafer 76,2 mm Diameter JGS1/JGS2

- Ik weet het niet.De 3-inch kwartswafer (76,2 mm) is een grootformaat, hoogzuiver gesmolten silica substraat speciaal ontworpen voor geavanceerde halfgeleiders, opto-elektronica,en optische toepassingen met een grotere verwerkingsplaats. In vergelijking met 2-inch wafers verbetert de 3-inch specificatie de productie-efficiëntie en vermindert het randverlies, waardoor het vooral geschikt is voor batchgefabriceerde MEMS-apparaten, geavanceerde fotomaskers,en laseroptische systemen.

ZMSH is gespecialiseerd in de op maat gemaakte productie van grootformaat kwartswafers en biedt:

· Volledige dekking:Van 2 inch tot 12 inch wafers, ondersteunt niet-standaard grootte aanpassing

• Complexe vormverwerking:met een gewicht van niet meer dan 30 g/m2

· Multifunctieve oppervlaktebehandeling:Eenzijdig/dubbelzijdig polijsten, coatings (AR/IR/DLC), microstructuur etsen

· Industrieoplossingen:Schoonheid op halfgeleiderniveau (klasse 100), laserboren, hoogprecise uitlijningsmarkeringen

Specificatie voor3 inch kwartswafel

Belangrijkste kenmerken van3 inch kwartswafel

- Grote homogeniteit: TTV≤15μm bij een diameter van 76,2 mm zorgt voor een gelijkmatige verwerking op grote oppervlakken

- Diep UV optimalisatie: >92% doorstraling bij 193 nm, ondersteunt ArF-lithografie en DUV-lasertoepassingen

- Thermische schokbestendigheid: thermische uitbreidingscoëfficiënt 0,55×10−6/°C, bestand tegen snelle temperatuurcyclussen (1000°C/min)

- Inertheid van chemische aard: Plasma-erosiebestendige, geschikt voor droog etsen en CMP-omgevingen

- Mechanische versterkingOptioneel chemisch versterken verhoogt de buigsterkte met 300% tot 500 MPa

Kerntoepassingen van3 inch kwartswafel

Op maat gemaakte kwartsprisma-oplossingen

ZMSH levert diensten voor het aanpassen van kwartsprisma's voor UV- tot IR-golflengten, met inbegrip van rechthoekprisma's, pentaprisma's en straalsplitterprisma's, met:

· Nauwkeurigheid van het oppervlak op nanometerniveau(λ/10@632.8nm)

· Speciale coatings(laserschadebestendige coatings, polariserende straalsplittercoatings)

· Geïntegreerde verwerking(hybride prisma-waferstructuren, microchannelkoelontwerpen)

Ideaal voor geavanceerde toepassingen op het gebied van laserstraalvorming, spectrale analyse en experimenten op het gebied van hoge-energiefysica- Dat is niet zo.