logo
Thuis Productenceramisch substraat

Op maat gemaakte SiC-keramische bootdrager voor waferbehandeling

Ik ben online Chatten Nu

Op maat gemaakte SiC-keramische bootdrager voor waferbehandeling

Customized SiC Ceramic Boat Carrier For Wafer Handling
Customized SiC Ceramic Boat Carrier For Wafer Handling Customized SiC Ceramic Boat Carrier For Wafer Handling Customized SiC Ceramic Boat Carrier For Wafer Handling Customized SiC Ceramic Boat Carrier For Wafer Handling

Grote Afbeelding :  Op maat gemaakte SiC-keramische bootdrager voor waferbehandeling

Productdetails:
Plaats van herkomst: China
Merknaam: zmsh
Certificering: rohs
Gedetailleerde productomschrijving
materiaal: met een gewicht van niet meer dan 10 kg Afmeting: 50 mm x 30 mm op maat verkrijgbaar
Markeren:

Keramische bootdrager voor waferbehandeling

,

Gepersonaliseerde keramische bootdrager

,

SiC-keramische bootdrager

Aangepaste SiC keramische bootdrager voor wafer handling

 
De aangepaste Silicon Carbide (SiC) keramische bootdrager is een hoogwaardige wafer handling oplossing ontworpen voor processen in de halfgeleider-, fotovoltaïsche en LED-industrie. Ontworpen voor hoge temperatuurstabiliteit, chemische bestendigheid en ultra-lage contaminatie, zorgt deze drager voor veilig en efficiënt wafertransport in veeleisende omgevingen zoals CVD, diffusieovens en oxidatiekamers.
 

 

Op maat gemaakte SiC-keramische bootdrager voor waferbehandeling 0Op maat gemaakte SiC-keramische bootdrager voor waferbehandeling 1
 
 


 

Belangrijkste voordelen van SiC keramische boot

 

 
Hoge thermische stabiliteit – Bestand tegen temperaturen tot 1.600°C zonder vervorming.
Chemische inertheid – Bestand tegen zuren, logen en plasma-erosie, wat zorgt voor duurzaamheid op lange termijn.
Lage deeltjesgeneratie – Minimaliseert contaminatie in EUV en geavanceerde node fabricage.
Aanpasbaar ontwerp – Op maat gemaakt voor wafergrootte, sleufafstand en handling-eisen
Ideaal voor halfgeleiderfabrieken, MEMS-productie en compound halfgeleiderverwerking
 
 

 

Op maat gemaakte SiC-keramische bootdrager voor waferbehandeling 2Op maat gemaakte SiC-keramische bootdrager voor waferbehandeling 3
 
 


 

Specificatie

 

 

Silicon Carbide Gehalte-%>99.5
Gemiddelde korrelgrootte-micron4-10
Bulkdichtheid-kg/dm^3>3.14
Schijnbare porositeit-Vol %<0.5
Vickers HardheidHV0.5Kg/mm^22800
Buigsterkte (3 punten)20°CMPa450
Druksterkte20°CMPa3900
Elasticiteitsmodulus20°CGPa420
Fractuurtaaiheid-MPa/m^1/23.5
Thermische geleidbaarheid20°CW(m*K)160
Elektrische weerstand20°COhm.cm10^6-10^8
Thermische uitzettingscoëfficiënta
(RT"800°C)
K^-1*10^-64.3
Max. toepassingstemperatuurOxide atmosfeer°C1600
Max. toepassingstemperatuurInerte atmosfeer°C1950
 

 


 

 

Toepassingen van SiC keramische boot

 

 
1. Halfgeleiderfabricage
✓ Diffusie- en gloeiovens
- Hoge temperatuurstabiliteit – Bestand tegen 1.600°C (oxiderend) / 1.950°C (inert) zonder vervorming.
- Lage thermische uitzetting (4.3×10⁻⁶/K) – Voorkomt wafervervorming in snelle thermische processen (RTP).

✓ CVD & Epitaxie (SiC/GaN groei)
- Gascorrosiebestendigheid – Inert voor SiH₄, NH₃, HCl en andere agressieve precursors.
- Deeltjesvrij oppervlak – Gepolijst (Ra <0.2µm) voor defectvrije epitaxiale depositie.

✓ Ionenimplantatie
- Stralingsgehard – Geen degradatie onder hoogenergetische ionenbombardement.

 
 
2. Vermogenselektronica (SiC/GaN-apparaten)
✓ SiC waferverwerking
- CTE-matching (4.3×10⁻⁶/K) – Minimaliseert spanning in 1.500°C+ epitaxiale groei.
- Hoge thermische geleidbaarheid (160 W/m·K) – Zorgt voor uniforme waferverwarming.

✓ GaN-op-SiC-apparaten
- Niet-contaminerend – Geen metaalionenafgifte vs. grafietboten.

 
 
3. Fotovoltaïsche (zonnecel) productie
✓ PERC & TOPCon zonnecellen
- POCl₃ diffusiebestendigheid – Bestand tegen fosfordopingomgevingen.
- Lange levensduur – 5-10 jaar vs. 1-2 jaar voor kwartsboten.

✓ Dunne-film zonnecellen (CIGS/CdTe)
- Corrosiebestendigheid – Stabiel in H₂Se, CdS depositieprocessen.

 
 
4. LED & Opto-elektronica
✓ Mini/Micro-LED epitaxie
- Precisie sleufontwerp – Houdt fragiele 2"–6" wafers vast zonder randbeschadiging.
- Cleanroom-compatibel – Voldoet aan SEMI F57-deeltjesnormen.

 
 
5. Onderzoek & Speciale toepassingen
✓ Hoge-temperatuur materiaalsynthese
- Sinterhulpmiddelen (bijv. B₄C, AlN) – Chemisch inert in 2.000°C+ omgevingen.
- Kristalgroei (bijv. Al₂O₃, ZnSe) – Niet-reactief met gesmolten materialen.

 


 

FAQ

 
V1:Welke wafermaten worden ondersteund?
Standaard: 150 mm (6"), 200 mm (8"), 300 mm (12"). Maatwerk beschikbaar op aanvraag.
 
V2: Wat is de doorlooptijd voor aangepaste ontwerpen?
- Standaardmodellen: 4–6 weken.
- Volledig aangepast: 8–12 weken (afhankelijk van de complexiteit).

 

Contactgegevens
SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

Contactpersoon: Mr. Wang

Tel.: +8615801942596

Direct Stuur uw aanvraag naar ons (0 / 3000)