4H Siliciumcarbide Substraat voor Vermogenselektronica, RF-apparaten, UV-Opto-elektronica

Andere Video's
November 20, 2025
Categorie Verbinding: Sic Substraat
Memorandum: In deze video bekijken we de 4H siliciumcarbide substraat, waarbij we de hoge zuiverheid van de enkelkristalstructuur en de ultralage defectdichtheid laten zien. Bekijk hoe we de toepassingen ervan in vermogenselektronica, RF-apparaten en UV-optica belichten, samen met de precisie CMP-polijsting en thermische prestaties.
Gerelateerde Productkenmerken:
  • Hoogzuiver 4H-SiC enkelkristal materiaal met ultra-lage defectdichtheid.
  • Precisie CMP-polijsten voor epitaxie-klare oppervlakken met Ra ≤ 0,5 nm.
  • Uitstekende thermische geleidbaarheid (490 W/m*K) en hoge temperatuurbestendigheid (tot 600 °C).
  • Stabiele elektrische eigenschappen met een weerstand van 0,01-0,1 Ω*cm.
  • Hoge mechanische sterkte met een Vickers hardheid van 28-32 GPa.
  • Ideaal voor vermogenselektronica, RF-apparaten en UV-optica.
  • Beschikbaar in aanpasbare maten, diktes en doteringsniveaus.
  • Geschikt voor R&D, prototyping en kleinschalige productie.
FAQS:
  • Wat is het belangrijkste voordeel van 4H-SiC in vergelijking met 6H-SiC?
    4H-SiC biedt een hogere elektronenmobiliteit, lagere aanweerstand en superieure prestaties in hoogvermogen- en hoogfrequente apparaten, waardoor het het voorkeursmateriaal is voor MOSFET's en diodes.
  • Leveren jullie geleidende of semi-isolerende SiC-substraten?
    Ja, we bieden N-type geleidend 4H-SiC aan voor vermogenselektronica en semi-isolerend 4H-SiC voor RF, microgolf en UV-detector toepassingen, met aanpasbare dopingniveaus.
  • Kan het substraat direct voor epitaxie worden gebruikt?
    Ja, onze epi-ready 4H-SiC-substraten zijn voorzien van CMP-gepolijste Si-oppervlakken met een lage defectdichtheid, geschikt voor MOCVD-, CVD- en HVPE-epitaxiale groei van GaN-, AlN- en SiC-lagen.