Memorandum: Kom en bekijk de Silicon Carbide Ceramic Tray van dichtbij, ontworpen voor LED wafer epitaxie en ICP etsprocessen. Ontdek de hoge thermische stabiliteit, mechanische sterkte en chemische bestendigheid in actie.
Gerelateerde Productkenmerken:
Hoge thermische stabiliteit: Behoudt prestaties bij extreme temperaturen tot 1650°C.
Mechanische sterkte: Hoge hardheid en draagvermogen voorkomen vervorming of scheuren.
Chemische bestendigheid: Bestand tegen sterke zuren, basen en corrosieve chemicaliën.
Thermische geleidbaarheid: Efficiënte warmteoverdracht voor uniforme procestemperaturen.
Lage thermische uitzetting: Garandeert dimensionale stabiliteit bij thermische cycli.
Elektrische isolatie: Biedt betrouwbare isolatie voor elektronische toepassingen.
CVD-coatingopties: Beschikbaar voor verbeterde slijtvastheid en thermische schokbescherming.
Aanpasbare maten en vormen: Ondersteunt specifieke procesvereisten in diverse industrieën.
FAQS:
Welke industrieën gebruiken gewoonlijk de siliciumcarbide keramische tray?
De tray wordt veel gebruikt in de halfgeleiderfabricage, de productie van geavanceerde keramiek, chemische processen, elektronica, lucht- en ruimtevaart, de automobielindustrie en de fabricage van medische apparatuur.
Wat zijn de belangrijkste voordelen van het gebruik van deze SiC keramische tray?
De tray biedt een hoge zuiverheid, chemische inertheid, stabiele mechanische eigenschappen onder extreme omstandigheden, uitstekende slijtvastheid en lichtgewicht duurzaamheid.
Kan de siliciumcarbide keramische tray worden aangepast?
Ja, de tray kan worden aangepast in afmetingen en vormen om aan specifieke procesvereisten te voldoen, inclusief optionele CVD-coatings voor verbeterde prestaties.